Пленка ito: Китай Оптическая проводящая пленка Ито 50 Ом для светодиодного стекла Производители

Содержание

ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ И ФОТОМАГНИТНЫЙ ОТКЛИК ПЛЕНОК ОКСИДА ИНДИЯ-ОЛОВА OpenBooks

ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ И ФОТОМАГНИТНЫЙ ОТКЛИК ПЛЕНОК ОКСИДА ИНДИЯ-ОЛОВА
OpenBooks | Репозиторий Университета ИТМО

OpenBooks

    Журнал

    Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики

    Мешковский И. К., Плясцов С. А.

    УДК:29.33.47

    Номер:6 (100)

    Скачать PDF0 Кбайт

    Предмет исследования. Исследованы фотоэлектрический и фотомагнитный отклик пленок ITO (indium tin oxide, оксид индия-олова) на воздействие лазерного излучения ультрафиолетового диапазона. Метод. Пленки оксида индия-олова толщиной 300 нм изготовлены методом магнетронного напыления. Облучение пленок производилось с помощью KrF эксимерного лазера с длиной волны 248 нм в диапазоне энергий импульса от 10 до 100 мДж. На образцы были нанесены металлические электроды. Информация о топографии поверхности пленок получена методами атомно-силовой и сканирующей электронной микроскопии. Структура пленки была исследована с помощью дифракции рентгеновского излучения. Основные результаты. Показано, что при воздействии лазерного излучения между электродами возникает разность потенциалов. При подключении резистивной нагрузки наблюдалось протекание электрического тока. Впервые продемонстрирована анизотропия электрического поля, обусловливающего фотоэлектрический отклик. Впервые наблюдалось возникновение магнитного пола при воздействии лазерного излучения на пленки ITO. Зависимость напряжения отклика от энергии импульса лазерного излучения была линейной во всем исследуемом диапазоне энергий. Предложен физический механизм для описания наблюдаемого явления: возникновение направленного движения электронов обусловлено неравномерным распределением среднего размера кристаллитов по поверхности пленки и, как следствие, различием длин свободного пробега носителей заряда по поверхности пленки. Магнитный отклик может быть связан с коллективными взаимодействиями большого числа заряженных частиц, образовавшихся в результате воздействия лазерного излучения высокой интенсивности. Практическая значимость. Исследуемое явление может лечь в основу новых оптоэлектронных приборов, таких как модуляторы, датчики оптического излучения и т.д. В частности, в силу линейной зависимости от энергии лазерного излучения пленки ITO являются привлекательными для создания простых, надежных и дешевых измерителей энергии импульсов эксимерных лазеров. К).

    • пленки ITO
    • indium tin oxide
    • аномальный фотовольтаический эффект
    • фотомагнитный отклик.
    • АВТОМАТИЧЕСКОЕ РАСПОЗНАВАНИЕ РЕЧИ – ОСНОВНЫЕ ЭТАПЫ ЗА 50 ЛЕТ
    • ВОЗМОЖНОСТИ СЕНСОРНОЙ СИСТЕМЫ НА ОСНОВЕ РАМАНОВСКОГО МЕТОДА ДЛЯ ОНЛАЙН-АНАЛИЗА ВДОХА–ВЫДОХА ЧЕЛОВЕКА
    • АНАЛИЗ ОБРАЗОВАНИЯ ПЕРИОДИЧЕСКИХ НАНОСТРУКТУР
      НА ПОВЕРХНОСТИ ЗОЛОТА ПРИ ВОЗДЕЙСТВИИ ЛАЗЕРНЫХ УЛЬТРАКОРОТКИХ ИМПУЛЬСОВ ВБЛИЗИ ПОРОГА ПЛАВЛЕНИЯ
    • ОПТИМИЗАЦИЯ РАБОЧИХ ХАРАКТЕРИСТИК ТВЕРДОТЕЛЬНОГО ЛАЗЕРА С ДИОДНОЙ НАКАЧКОЙ ДЛЯ КОСМИЧЕСКИХ ПРИМЕНЕНИЙ
    • ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ СРАВНЕНИЕ АЛГОРИТМОВ
      ГОМОДИННОЙ ДЕМОДУЛЯЦИИ СИГНАЛОВ ДЛЯ ФАЗОВОГО ВОЛОКОННО-ОПТИЧЕСКОГО ДАТЧИКА
    • ИССЛЕДОВАНИЕ ХАРАКТЕРИСТИК НАПРАВЛЕННОСТИ СДВОЕННОГО ВОЛОКОННО-ОПТИЧЕСКОГО ГИДРОФОНА
    • СУБДЖОУЛЬНЫЙ ЛАЗЕР НА ИТТЕРБИЙ-ЭРБИЕВОМ СТЕКЛЕ С ДИОДНОЙ НАКАЧКОЙ И МОДУЛЯЦИЕЙ ПОЛЕЗНЫХ ПОТЕРЬ РЕЗОНАТОРА ДЛЯ ЭКСТРАКЦИИ КАТАРАКТЫ
    • АВТОМАТИЗАЦИЯ ЦЕНТРИРОВКИ ЛИНЗ ПРИ ВКЛЕЙКЕ В ОПРАВЫ
    • ФОРМИРОВАНИЕ КОРРЕЛЯЦИОННЫХ ФУНКЦИЙ ЛИНЕЙНЫХ НЕПРЕРЫВНЫХ СИСТЕМ НА ОСНОВЕ ИХ ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ МАТРИЦ
    • УПРАВЛЕНИЕ КВАДРОКОПТЕРОМ С КОМПЕНСАЦИЕЙ ВЕТРОВЫХ ВОЗМУЩЕНИЙ
    • ХИРАЛЬНОЕ РАСПОЗНАВАНИЕ МОЛЕКУЛ ЦИСТЕИНА КВАНТОВЫМИ ТОЧКАМИ CdSe и CdS
    • МИКРОСТРУКТУРИРОВАНИЕ МОНОКРИСТАЛЛОВ КРЕМНИЯ
      ВОЛОКОННЫМ ЛАЗЕРОМ В РЕЖИМЕ ВЫСОКОСКОРОСТНОГО СКАНИРОВАНИЯ
    • ОПРЕДЕЛЕНИЕ ДАВЛЕНИЯ НАСЫЩЕННОГО ПАРА НИЗКОЛЕТУЧИХ ВЕЩЕСТВ НА ОСНОВЕ ИЗУЧЕНИЯ СКОРОСТИ ИСПАРЕНИЯ МЕТОДОМ ТЕРМОГРАВИМЕТРИЧЕСКОГО АНАЛИЗА
    • ИССЛЕДОВАНИЕ АКТУАЛЬНЫХ СПОСОБОВ ПУБЛИКАЦИИ ОТКРЫТЫХ НАУЧНЫХ ДАННЫХ В СЕТИ
    • ОЦЕНКА ПРОИЗВОДИТЕЛЬНОСТИ SD-КАРТ НА ОСНОВЕ ТЕХНОЛОГИИ «СИСТЕМА НА КРИСТАЛЛЕ»
    • МОДЕЛИ ДИНАМИЧЕСКОЙ МИГРАЦИИ С ИТЕРАТИВНЫМ ПОДХОДОМ И СЕТЕВОЙ МИГРАЦИИ ВИРТУАЛЬНЫХ МАШИН
    • ПРЕДМЕТНО-ОРИЕНТИРОВАННОЕ ПРОЕКТИРОВАНИЕ И РЕАЛИЗАЦИЯ ИНФОРМАЦИОННЫХ СИСТЕМ ДЛЯ ПРЕДМЕТНЫХ ОБЛАСТЕЙ МАССОВОГО ОБСЛУЖИВАНИЯ КЛИЕНТОВ
    • РЕАЛИЗАЦИЯ КОНТРОЛЯ ЦЕЛОСТНОСТИ ОБРАЗА ОПЕРАЦИОННОЙ СИСТЕМЫ, ЗАГРУЖАЕМОГО ПО СЕТИ НА ТОНКИЙ КЛИЕНТ
    • МЕТОД И АБСТРАКТНАЯ МОДЕЛЬ КОНТРОЛЯ И РАЗГРАНИЧЕНИЯ ПРАВ ДОСТУПА ПЕРЕНАПРАВЛЕНИЕМ (ПЕРЕАДРЕСАЦИЕЙ) ЗАПРОСОВ
    • ИССЛЕДОВАНИЕ И РАЗРАБОТКА ПОДХОДА К ПОСТРОЕНИЮ
      ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОГО МОБИЛЬНОГО СЕРВИСА
      ДЛЯ АВТОМАТИЗИРОВАННОЙ ПОДДЕРЖКИ ВОДИТЕЛЯ ТРАНСПОРТНОГО СРЕДСТВА
    • РАЗГРУЗКА СЕТЕЙ LTE ЧЕРЕЗ СЕТИ Wi-Fi
    • СПОСОБ ОБУЧАЮЩИХ ПРИМЕРОВ В РЕШЕНИИ ОБРАТНЫХ НЕКОРРЕКТНЫХ ЗАДАЧ СПЕКТРОСКОПИИ
    • ПРОИЗВОЛЬНОЕ ВЗАИМОДЕЙСТВИЕ ПЛОСКИХ СВЕРХЗВУКОВЫХ ПОТОКОВ
    • МЕТОД АНАЛИЗА ЛОГИЧЕСКИХ УСЛОВИЙ ДЛЯ ДЕШИФРАЦИИ РЕЗУЛЬТАТОВ ДИАГНОСТИЧЕСКОГО ТЕСТА УРОВНЯ ОСВОЕНИЯ ЭЛЕМЕНТОВ КОМПЕТЕНЦИЙ
    • ПОЛУЧЕНИЕ НАНОЧАСТИЦ СОКРИСТАЛЛА
      2. 6-ДИАМИНОПИРИДИН-4-НИТРОФЕНОЛ (26DAP4N) МЕТОДОМ ЛАЗЕРНОЙ АБЛЯЦИИ

    Содержание © 1993–2023 Университет ИТМО
    Разработка © 2015 Университет ИТМО

    EMC ITO экранирующая пленка | DACPOL Польша

    Фотографии предназначены только для информационных целей. Посмотреть спецификацию продукта

    • Информация о товаре
    • Скачать

    Description:
    EMI-ito15 is a is a highly conductive coated optically clearpolyester film. The combination of high visible light transmission, near neutral colour and low electrical resistance make an ideal EMI/RFI shield for
    electronic displays, touch screen and membrane switchpanels requiring moderate shielding effectiveness and high quality optical properties. The thin film is ideal for easy integration into optical stacks and displays.

    Product Format
    EMI-ito15 is a 175micron polyester film with a vacuum deposited conductive coating on one surface. This coating is durable and is not liable to cosmetic damage such as oxidisation from moisture or finger prints like a silver based coating. Parts are precision cut by our zero width X-Y CNC. Full CAD/CAM ability means we have no tooling charges (we can work directly from drawings or electronic files) and the delivery lead time is very short. EMI-ito15 can also be supplied in sheets or rolls, maximum standard web width = 760mm.

     

    Application Notes
    Parts can be supplied fitted with a PSA gasket on the non-conductive side for ease of assembly or to provide spacing to prevent the optical distortions (Newton Rings).

    Właściwości produktu:
    Rezystancja powłoki: 13 x 10-5 Ω/mm2
    Grubość powierzchni: 150nm
    Wytrzymałość temperaturowa: 140oC
    Wilgotność (60oC/90%RH): bez efektów
    Przyczepność do szkła: MIL M-13508 4. 4.6
    Wytrzymałość na ścieranie: MIL C-675-A 4.6.11
    MIL E-12397-B
    Transmisja: 550nm: 89%
    Kolor: transparentny
    Odbicie: <4%

     

    Termination Method
    Direct contact can be made to the conductive surface by a suitable conductive fabric over foam gasket, silver loaded silicone gasket or by a using an conductive adhesive tape such as Copper, Aluminium or Tinned Copper. Do not use busbar paints or gaskets containing metal wires.

    Shielding effectiveness
    This graph is a guide to the typical shielding effectiveness of EMI-ito15.

    Screen size [mm]











    [MHz]50100150200300400450
    3052483936333230
    7543374431292625
    10044373431282625
    15042353229252423
    20061545048444342
    30052434240353432
    50045393722302929
    70037332925252525
    100032262424242424

    Rezystancja powierzchni została specjalnie dobrana, aby zachować balans pomiędzy dobrym ekranowaniem i odpowiednimi parametrami optycznymi produktu. Powłoki o rezystancji większej niż 2 x 10-4 Ω/mm2 ekranują słabiej, zaś powłoki o mniejszej rezystancji obniżają emisję światła, a wartość odbicia wzrasta.

    Dane techniczne:
    Rozmiar: max 400 x 500mm
    Grubość: 1.1mm nielaminowane
    2.5-4.3mm laminowane
    Wykonanie zewnętrzne: gładkie szkło
    powierzchnia Anti-Reflective (MLAR),
    Non-Glare (etch85)
    Kształt krawędzi: kwadratowa
    Dodatkowe opcje:

    • poprawa kontrastu
    • dodatkowe filtry
    • niestandardowa gęstość i kolor
    • filtry blokujące promieniowanie NIR (bliska podczerwień)

     

    Finishing windows

    Deposited on the silver layer

     

    The tape of tinned copper

     

    Direct contact

     

    The window may be made of glass, polycarbonate shell option is not reflective and / or antireflection coating.

    Меньше

    Читать больше

    8_2_folia_ekranujaca_emc_ito.pdf

    • Информация о товаре
    • Скачать

    Description:
    EMI-ito15 is a is a highly conductive coated optically clearpolyester film. The combination of high visible light transmission, near neutral colour and low electrical resistance make an ideal EMI/RFI shield for
    electronic displays, touch screen and membrane switchpanels requiring moderate shielding effectiveness and high quality optical properties. The thin film is ideal for easy integration into optical stacks and displays.

    Product Format
    EMI-ito15 is a 175micron polyester film with a vacuum deposited conductive coating on one surface. This coating is durable and is not liable to cosmetic damage such as oxidisation from moisture or finger prints like a silver based coating. Parts are precision cut by our zero width X-Y CNC. Full CAD/CAM ability means we have no tooling charges (we can work directly from drawings or electronic files) and the delivery lead time is very short. EMI-ito15 can also be supplied in sheets or rolls, maximum standard web width = 760mm.

     

    Application Notes
    Parts can be supplied fitted with a PSA gasket on the non-conductive side for ease of assembly or to provide spacing to prevent the optical distortions (Newton Rings).

    Właściwości produktu:
    Rezystancja powłoki: 13 x 10-5 Ω/mm2
    Grubość powierzchni: 150nm
    Wytrzymałość temperaturowa: 140oC
    Wilgotność (60oC/90%RH): bez efektów
    Przyczepność do szkła: MIL M-13508 4.4.6
    Wytrzymałość na ścieranie: MIL C-675-A 4.6.11
    MIL E-12397-B
    Transmisja: 550nm: 89%
    Kolor: transparentny
    Odbicie: <4%

     

    Termination Method
    Direct contact can be made to the conductive surface by a suitable conductive fabric over foam gasket, silver loaded silicone gasket or by a using an conductive adhesive tape such as Copper, Aluminium or Tinned Copper. Do not use busbar paints or gaskets containing metal wires.

    Shielding effectiveness
    This graph is a guide to the typical shielding effectiveness of EMI-ito15.

    Screen size [mm]











    [MHz]50100150200300400450
    3052483936333230
    7543374431292625
    10044373431282625
    15042353229252423
    20061545048444342
    30052434240353432
    50045393722302929
    70037332925252525
    100032262424242424

    Rezystancja powierzchni została specjalnie dobrana, aby zachować balans pomiędzy dobrym ekranowaniem i odpowiednimi parametrami optycznymi produktu. Powłoki o rezystancji większej niż 2 x 10-4 Ω/mm2 ekranują słabiej, zaś powłoki o mniejszej rezystancji obniżają emisję światła, a wartość odbicia wzrasta.

    Dane techniczne:
    Rozmiar: max 400 x 500mm
    Grubość: 1.1mm nielaminowane
    2.5-4.3mm laminowane
    Wykonanie zewnętrzne: gładkie szkło
    powierzchnia Anti-Reflective (MLAR),
    Non-Glare (etch85)
    Kształt krawędzi: kwadratowa
    Dodatkowe opcje:

    • poprawa kontrastu
    • dodatkowe filtry
    • niestandardowa gęstość i kolor
    • filtry blokujące promieniowanie NIR (bliska podczerwień)

     

    Finishing windows

    Deposited on the silver layer

     

    The tape of tinned copper

     

    Direct contact

     

    The window may be made of glass, polycarbonate shell option is not reflective and / or antireflection coating.

    Меньше

    Читать больше

    8_2_folia_ekranujaca_emc_ito.pdf

    Оксид индия, легированный оловом, ITO для оптического покрытия

    Обзор

    Оксид индия, легированный оксидом олова, ITO, используется для изготовления прозрачных проводящих покрытий. Тонкие пленочные слои могут быть нанесены путем электронно-лучевого испарения или распыления. Рулонное или рулонное покрытие на полимерных подложках выполняется с помощью магнетронного или другого метода напыления.

    Типичные области применения подложек с покрытием ITO включают контакты сенсорных панелей, электроды для ЖК-дисплеев и электрохромных дисплеев, энергосберегающие архитектурные окна, защиту от запотевания окон самолетов и автомобилей, теплоотражающие покрытия для повышения эффективности лампочек, датчики газа, антистатические покрытия окон, износостойкие покрытия. слои на стекле и т.д.

    Свойства пленки индия ITO, легированного оловом

    Оптические и электронные свойства пленок ITO сильно зависят от параметров осаждения и исходного состава используемого испаряемого материала. Осажденный пленочный слой должен содержать носители заряда с высокой плотностью, чтобы он мог проводить ток. Эти носители представляют собой свободные электроны и кислородные вакансии, а избыточное заселение приводит к поглощению. Высокая проводимость (или низкое поверхностное сопротивление) уравновешивается высоким коэффициентом пропускания в видимой области. Листовое сопротивление может быть менее 10 Ом/кв. со светопропусканием >80%. Чтобы получить передачу рядом с 90%, поверхностное сопротивление должно быть >100 Ом/кв. Пленки ITO ведут себя как металлы по отношению к длинноволновому свету из-за наличия плазмы с длиной волны более 1 мкм.

    Показатель преломления индия ITO, легированного оловом

    Показатель преломления пленки, прозрачной в видимой области, остается около 1,95 и не сильно зависит от параметров осаждения. Индекс обычно имеет второстепенное значение для работы с приложениями. Коэффициент экстинкции зависит от проводимости.

    Поведение материала ITO, легированного оловом индия

    Параметры осаждения играют взаимозависимую роль в оптимизации свойств пленки. Основными параметрами осаждения являются парциальное давление кислорода, температура подложки, скорость осаждения и состав материала. В некоторых процессах требуется прокаливание после осаждения при температуре 300-500°C на воздухе для окисления остаточного фракционированного металлического компонента и улучшения проводимости. В процессах напыления плазма высокой энергии может заменить высокую температуру подложки.

    Параметры электронно-лучевого осаждения индия ITO, легированного оловом

    Наилучшие результаты достигаются при использовании реактивного испарения с низкой скоростью и относительно высоким давлением, поскольку исходный материал восстанавливается (теряет кислород) во время испарения. Рекомендуемое предварительное кондиционирование состоит в медленном перемещении пучка электронов малой мощности для постепенного и равномерного сплавления поверхностей материала и предотвращения сверления отверстий пучком. Контролируйте давление и тигель, чтобы свести к минимуму дегазацию и разбрызгивание, медленно увеличивая мощность до чуть ниже температуры испарения.

     

     

    Толщина пленки должна быть в диапазоне 1000-2000 Å для высокой ИК-отражательной способности, но проводимость мало зависит от толщины.

    Конкретная геометрия системы испарения может повлиять на результаты, поэтому указанные параметры следует рассматривать как ориентировочные. Последующая сушка на воздухе может потребоваться для регулировки передачи или для получения минимального сопротивления листа.

    Физические свойства твердого материала ITO

    Напыление индия ITO, легированного оловом

     Мишени Materion с высокой плотностью и высоким содержанием оксида обеспечивают хороший контроль стехиометрии пленки и во многих случаях устраняют необходимость в последующем обжиге. Для испарения часто используются методы постоянного тока или реактивного радиочастотного магнетрона. Ионизированный аргон представляет собой распыляющий газ с небольшим процентным содержанием кислорода. Оксидированный состав мишеней из материала Materion требует меньшего парциального давления кислорода, чем другие мишени. Параметры напыления включают состав газа, скорость потока, плотность мощности, напряжение смещения, геометрию, ток плазмы и температуру подложки. Реактивное распыление мишеней из оксида высокой плотности является наиболее успешным методом, поскольку возможен больший контроль стехиометрии пленки. Обычно необходимо включать кислород, чтобы предотвратить уменьшение количества испаряющегося вещества. Примеры концентраций составляют 1-3 x 10-5 торр кислорода и 1 x 10-2 торр аргона.

    Напыление на полимерные подложки, такие как ПЭТ, требует внимания к следующим параметрам. Поверхность основания должна быть очищена от воды и других поверхностных загрязнений. Низкие температуры подложки для полимеров покрытия возможны при магнетронном распылении. Высокая скорость осаждения достигается в рулонных или рулонных системах покрытия. Для успеха необходимо предварительное распыление поверхности мишени для удаления адсорбированных газов и частично прореагировавших слоев. Было обнаружено, что добавление небольшого процента водорода полезно для достижения низкого поверхностного сопротивления при низкой температуре подложки.

    Рисунок 1. Удельное сопротивление и концентрация носителей в напыленных пленках ITO

    На приведенной ниже диаграмме показаны зависимости концентрации носителей и удельного сопротивления от температуры подложки для мишени из материала Materion, напыленного ВЧ. Концентрация носителей существенно увеличилась, вероятно, из-за создания большего количества кислородных вакансий при более высоких температурах. Как правило, сопротивление связано с пропусканием, и они напрямую связаны со степенью окисления пленки.

     

     

    Рисунок 1 (Адаптировано из ссылки 1.)

    Применение напыленной пленки индия ITO, легированного оловом

    Благодаря высокому содержанию оксидов в мишенях высокой плотности и объемных формах ITO Materion они идеально подходят для низкотемпературных применений, таких как полимерные подложки для ЖК-дисплеев, сенсорных панелей и других производственных нужд, требующих больших объемов.

    Формы и размеры, доступные для индия ITO, легированного оловом

    Артикул № Чистота Описание
    123020 99,99% 91 мол. % In2O3 — 9 мол. % SnO2, 3–12 мм, спеченные детали
    123018 99,99% 90 % по массе In2O3- 10 % по массе SnO2, 3–12 мм, спеченные детали

    Materion МОЖЕТ ИЗГОТОВИТЬ химикаты для ваших нужд

    Materion предлагает другие размеры частиц для испарения, а также мишени для распыления различного состава. Чтобы просмотреть цены на товары, перечисленные выше, посетите онлайн-каталог Materion и выполните поиск по номеру товара или химическому названию. Если вам требуется изделие, изготовленное по индивидуальному заказу, отправьте свои конкретные требования через нашу форму запроса предложения или по телефону 414-289-9800.

    Вы также можете связаться с Materion по другим вопросам, касающимся наших продуктов и услуг, заполнив форму обратной связи.

    ITO, оксид индия, легированный оловом, для оптического покрытия.

    1. Ray Swati, R. Banerjee, N. Basu, A.K. Batabyal и A.K. Barua, J. Appl. физ. 54(6), 3497 (1983).

    Все печатные, графические и иллюстрированные материалы, размещенные на этом веб-сайте, принадлежат компании Materio и защищены федеральными законами об авторском праве. Ни один из материалов, полностью или частично, не может быть перепечатан и распространен или иным образом предоставлен другим лицам для любых целей без предварительного письменного согласия Materion.

    Свяжитесь с нами: 414-289-9800 или по электронной почте: [email protected]

    Исследования адсорбции фосфоновой кислоты на ITO: пленочное покрытие, чистота и индуцированные изменения электронной структуры

    Исследования адсорбции фосфоновой кислоты на ITO: пленочное покрытие, чистота и индуцированные изменения электронной структуры†

    С. А.
    Паниагуа, ‡ * и

    Э. Л.
    Ли б
    и

    С. Р.
    Мардер* и

    Принадлежности автора

    *

    Соответствующие авторы

    и

    Школа химии и биохимии Технологического института Джорджии, Атланта, Джорджия, США

    Электронная почта:
    [email protected], [email protected]

    б

    Школа машиностроения, Технологический институт Джорджии, Атланта, Джорджия, США

    Аннотация